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 Two-dimensional crystalline hard masks for high-aspect-ratio nanofabrication 相关领域
材料科学
纳米光刻
纳米技术
等离子体刻蚀
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硅
单层
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深反应离子刻蚀
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期刊：Nature Materials 作者：Pranavram Venkatram; Ziheng Chen; Krishnendu Mukhopadhyay; Bob Hengstebeck; Lei Ding; et al 出版日期：2026-03-10 |
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