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 Characterization of residues formed by anhydrous hydrogen fluoride etching of doped oxides 掺杂氧化物的无水氟化氢蚀刻形成的残留物的表征
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Anthony J. Muscat; Adam G. Thorsness; Gerardo Montaño-Miranda 出版日期：2001-07-01 |
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