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 Inert Mask Lithography of Edge Narrowed Graphene Nanoribbons Directly Contacted to Metallic Electrodes 与金属电极直接接触的边缘变窄石墨烯纳米带的惰性掩模光刻
相关领域
石墨烯
材料科学
纳米技术
石墨烯纳米带
平版印刷术
蚀刻（微加工）
电极
纳米光刻
模板
氧化石墨烯纸
光电子学
制作
图层（电子）
化学
物理化学
替代医学
病理
医学
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| 其它 |
期刊：Advanced Materials Interfaces 作者：Hadi Arjmandi‐Tash; Amedeo Bellunato; Grégory F. Schneider; Grégory F. Schneider 出版日期：2021-09-29 |
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