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[高分] An Accurate Gate-level Stress Estimation for NBTI
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网址
DOI
10.5573/jsts.2013.13.2.139 doi
其它 期刊:JSTS Journal of Semiconductor Technology and Science
作者:Sangwoo Han; Junho Lee; Byung‐Su Kim; Juho Kim
出版日期:2013-04-30
求助人
mcy 在 2025-10-16 19:17:37 发布自贵州,悬赏 150 积分
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