Elimination of the gate and drain bias stresses in I–V characteristics of WSe2 FETs by using dual channel pulse measurement

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标题	Elimination of the gate and drain bias stresses in I–V characteristics of WSe2 FETs by using dual channel pulse measurement
网址	https://pubs.aip.org/aip/apl/article-pdf/doi/10.1063/1.49604...
DOI	10.1063/1.4960459 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Jun-Mo Park; In-Tak Cho; Won-Mook Kang; Byung-Gook Park; Jong-Ho Lee 出版日期：2016-08-03
求助人	耍酷夏彤在 2026-02-19 20:27:48 发布自福建，悬赏 10 积分
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