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Highly area-selective atomic layer deposition of device-quality Hf1-xZrxO2 thin films through catalytic local activation
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原子层沉积 催化作用 图层（电子） 沉积（地质） 材料科学 薄膜 化学工程 原子层外延 纳米技术 化学 有机化学 地质学 沉积物 工程类 古生物学
网址
https://doi.org/10.1016/j.cej.2024.150760
DOI
10.1016/j.cej.2024.150760 doi
其它 期刊：Chemical Engineering Journal
作者：Hyo‐Bae Kim; Jeong‐Min Lee; Dougyong Sung; Ji‐Hoon Ahn; Woo‐Hee Kim
出版日期：2024-03-27
求助人
小Q 在 2026-01-06 21:53:01 发布自四川，悬赏 10 积分
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