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Effect of the H2/N2 Ratio on Molybdenum Nitride Thin Films Deposited by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition: Applications for Next-Generation Interconnects
H2/N2比对等离子体增强原子层沉积氮化钼薄膜的影响：在下一代互连中的应用
相关领域
原子层沉积 钼 氮化物 材料科学 等离子体 图层（电子） 沉积（地质） 薄膜 分析化学（期刊） 光电子学 化学 纳米技术 冶金 物理 古生物学 量子力学 色谱法 沉积物 生物
网址
https://doi.org/10.1021/acsanm.5c02365
DOI
10.1021/acsanm.5c02365 doi
其它 期刊：ACS applied nano materials
作者：Min‐Ji Ha; Na-Gyeong Kang; Eun-Su Chung; Ji‐Hoon Ahn
出版日期：2025-06-13
求助人
jingjing 在 2025-12-09 15:11:37 发布自安徽，悬赏 10 积分
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