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标题
Atomic Layer Etching of SiO2 Utilizing Ultra-Low Electron Temperature Plasma
超低电子温度等离子体原子层刻蚀SiO2
相关领域
蚀刻（微加工） 等离子体 材料科学 图层（电子） 等离子体刻蚀 电子 温度电子 原子物理学 纳米技术 物理 量子力学
网址
https://doi.org/10.1021/acsaelm.5c00362
DOI
10.1021/acsaelm.5c00362 doi
其它 期刊：ACS Applied Electronic Materials
作者：Junyoung Park; Nayeon Kim; Jung-Eun Choi; Y. K. Yeo; Min-Seok Kim; et al
出版日期：2025-05-05
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翻滚的肉夹馍 在 2025-05-14 09:54:10 发布自上海，悬赏 10 积分
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