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![]() 基于等离子体处理SiO2/Si衬底的化学气相沉积电性能大大提高的高质量MoS2单层
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期刊:Applied Surface Science 作者:Chenglin Wang; Qianqian Wu; Qilei Xu; Xitao Guo; Junming Song; et al 出版日期:2024-05-01 |
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