Understanding Acid Reaction and Diffusion in Chemically Amplified Photoresists: An Approach at the Molecular Level

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标题	Understanding Acid Reaction and Diffusion in Chemically Amplified Photoresists: An Approach at the Molecular Level
网址	http://dx.doi.org/10.1021/jp2027548
DOI	10.1021/jp2027548 doi
其它	期刊：The Journal of Physical Chemistry C 作者：Pedro J. Rodríguez-Cantó; Ulrich Nickel; Rafael Abargues 出版日期：2011-09-29
求助人	111 在 2026-10-06 19:52:15 发布自江苏，悬赏 10 积分
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