Low-temperature fabrication of silicon nitride thin films from a SiH4+N2 gas mixture by controlling SiNx nanoparticle growth in multi-hollow remote plasma chemical vapor deposition

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标题	Low-temperature fabrication of silicon nitride thin films from a SiH4+N2 gas mixture by controlling SiNx nanoparticle growth in multi-hollow remote plasma chemical vapor deposition
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2023.107613
DOI	10.1016/j.mssp.2023.107613 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Kunihiro Kamataki; Yusuke Sasaki; Iori Nagao; Daisuke Yamashita; Takamasa Okumura; et al 出版日期：2023-05-31
求助人	kiki 在 2026-10-23 15:54:15 发布自江苏，悬赏 10 积分
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