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 Preparation and analysis of amorphous carbon films deposited from (C6H12)/Ar/He chemistry for application as the dry etch hard mask in the semiconductor manufacturing process |
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期刊：Thin Solid Films 作者：Seungmoo Lee; Jaihyung Won; Jongsik Choi; Samseok Jang; Yeonhong Jee; et al 出版日期：2011-02-13 |
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