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Novel hemispherical Halbach array configuration and material removal mechanisms for magnetorheological polishing of polymethyl methacrylate 相关领域
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期刊:The International Journal of Advanced Manufacturing Technology 作者:Quach Vu Hieu; Nguyen Tien Tung; Le Thi Phuong Thanh; Nguyen Chi Tam; Dao Ngoc Hoanh; et al 出版日期:2026-05-06 |
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