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 Chemical kinetics in chemical vapor deposition: growth of silicon dioxide from tetraethoxysilane (TEOS) 化学气相沉积中的化学动力学：由四乙氧基硅烷(TEOS)生长二氧化硅
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期刊：Thin Solid Films 作者：Michael E. Coltrin; Pauline Ho; Harry K. Moffat; Richard J. Buss 出版日期：2002-07-26 |
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