| 标题 |
In-situ monitoring of etch uniformity using plasma emission interferometry 相关领域
等离子体
干涉测量
材料科学
蚀刻(微加工)
等离子体刻蚀
干扰(通信)
原位
光学
电极
容性耦合等离子体
电介质
光电子学
分析化学(期刊)
感应耦合等离子体
化学
纳米技术
物理
频道(广播)
电气工程
工程类
图层(电子)
量子力学
物理化学
色谱法
有机化学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者:Vladimir Šamara; Jean‐François de Marneffe; Ziad El Otell; Demetre J. Economou 出版日期:2015-04-09 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|