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 Multicomponent Protection at Metal/Oxide Interfaces: Electron-Atomic Scale Mechanism of TT-LYK Inhibitor in Cobalt Chemical Mechanical Polishing 金属/氧化物界面的多组分保护：TT-LYK抑制剂在钴化学机械抛光中的电子-原子尺度机理
相关领域
钴
原子单位
氧化钴
金属
抛光
氧化物
机制（生物学）
化学机械平面化
材料科学
化学
化学工程
冶金
物理
量子力学
工程类
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| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Langmuir 作者：Lianjun Hu; Qian Sun; Shuping Hou; Yang Wu; Guang Fu; et al 出版日期：2025-08-19 |
| 求助人 | |
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