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标题
Isotropic plasma atomic layer etching of Al2O3 using a fluorine containing plasma and Al(CH3)3
相关领域
等离子体 反应离子刻蚀 材料科学 等离子体刻蚀 分析化学（期刊） 蚀刻（微加工） 椭圆偏振法 氟 纳米光刻 等离子体诊断 各向同性 图层（电子） 纳米技术 化学 薄膜 光学 冶金 有机化学 医学 物理 替代医学 量子力学 病理 制作
网址
https://doi.org/10.1063/5.0022531
AI链接 tue.nl tue.nl tue.nldoi.org
DOI
10.1063/5.0022531 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Nicholas J. Chittock; Martijn F. J. Vos; Tahsin Faraz; W. M. M. Kessels; Harm C. M. Knoops; et al
出版日期：2020-10-19
求助人
老艺术家 在 2025-10-09 20:16:41 发布自河南，悬赏 10 积分
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