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Achieving High Dielectric Constants in Tetragonal Single‐Phase ZrHfO2 Thin Films through the Atomic Layer Deposition Process Using a Mixed Precursor
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网址
https://doi.org/10.1002/pssa.202100652
DOI
10.1002/pssa.202100652 doi
其它 期刊：Physica Status Solidi A-applications and Materials Science
作者：Jenam Kim; Young U. Ryu; Aejin Lee; Ye Won Kim; Ji Hyeon Hwang; et al
出版日期：2022-03-29
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HfO2AND 在 2025-10-24 15:17:07 发布自福建，悬赏 10 积分
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