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 Design of a disulfide bond-containing photoresist with extremely low volume shrinkage and excellent degradation ability for UV-nanoimprinting lithography 用于UV纳米压印光刻的具有极低体积收缩和优异降解能力的含二硫键光刻胶的设计
相关领域
光刻胶
材料科学
纳米压印光刻
平版印刷术
聚合
抵抗
收缩率
聚合物
丙烯酸酯
化学工程
复合材料
高分子化学
光电子学
共聚物
制作
图层（电子）
医学
替代医学
病理
工程类
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| 其它 |
期刊：Chemical Engineering Journal 作者：Mingliang Zhang; Shengling Jiang; Yanjing Gao; Jun Nie; Fang Sun 出版日期：2020-03-02 |
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