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 Network structure of a-SiO:H layers fabricated by plasma-enhanced chemical vapor deposition: Comparison with a-SiC:H layers 等离子体增强化学气相沉积a-SiO：H层的网络结构：与a-SiC：H层的比较
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期刊：Journal of Non-Crystalline Solids 作者：Masanori Sato; Sean W. King; William A. Lanford; Patrick Henry; Takemasa Fujiseki; Hiroyuki Fujiwara 出版日期：2016-03-10 |
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