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标题
Thermal Stability of HfO2|AlGaN|GaN Normally-Off Transistors with Ni|Au and Pt Gate Metals
相关领域
材料科学 跨导 光电子学 阈值电压 金属浇口 饱和电流 泄漏（经济） 晶体管 热稳定性 栅氧化层 工作职能 电压 图层（电子） 纳米技术 电气工程 化学 有机化学 经济 宏观经济学 工程类
网址
https://doi.org/10.1134/s1063782621070095
DOI
10.1134/s1063782621070095 doi
其它 期刊：Semiconductors
作者：Yu‐Sheng Lin; Jing-Shiuan Niu; W.-C. Liu; Jung‐Hui Tsai
出版日期：2021-07-01
求助人
牛奶奶爱喝纯牛奶 在 2025-10-12 19:45:11 发布自天津，悬赏 10 积分
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