Thermal Stability of HfO2|AlGaN|GaN Normally-Off Transistors with Ni|Au and Pt Gate Metals

材料科学 跨导 光电子学 阈值电压 金属浇口 饱和电流 泄漏(经济) 晶体管 热稳定性 栅氧化层 工作职能 电压 图层(电子) 纳米技术 电气工程 化学 有机化学 经济 宏观经济学 工程类
作者
Yu‐Sheng Lin,Jing-Shiuan Niu,W.-C. Liu,Jung‐Hui Tsai
出处
期刊:Semiconductors [Pleiades Publishing]
卷期号:55 (7): 608-616
标识
DOI:10.1134/s1063782621070095
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