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 A new technique for evaluating stacked nanosheet inner spacer TDDB reliability 相关领域
随时间变化的栅氧化层击穿
纳米片
材料科学
可靠性（半导体）
光电子学
电介质
电容
晶体管
缩放比例
MOSFET
电子工程
栅极电介质
电气工程
纳米技术
电极
工程类
电压
功率（物理）
化学
物理
几何学
数学
量子力学
物理化学
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期刊：2022 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS) 作者：Tian Shen; Kôji Watanabe; Huimei Zhou; Michael Belyansky; Erin Stuckert; et al 出版日期：2020-04-01 |
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