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标题
Back-gate effects on DC performance and carrier transport in 22 nm FDSOI technology down to cryogenic temperatures
22 nm FDSOI技术中背栅对低温下直流性能和载流子输运的影响
相关领域
量子隧道 光电子学 材料科学 阈下传导 低温 晶体管 低温学 散射 阈下摆动 饱和（图论） 电子迁移率 凝聚态物理 阈值电压 电压 电气工程 物理 工程类 光学 量子力学 数学 组合数学 复合材料
网址
https://doi.org/10.1016/j.sse.2022.108296
DOI
10.1016/j.sse.2022.108296 doi
其它 期刊：Solid-State Electronics
作者：Hung-Chi Han; Farzan Jazaeri; Antonio D’Amico; Zhixing Zhao; Steffen Lehmann; et al
出版日期：2022-03-28
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重组聚合酶扩增 在 2025-08-28 18:42:01 发布，悬赏 10 积分
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