Plasma activation synergistic with sustained-release fenton polishing for achieving an atomically smooth surface on single-crystal diamond

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标题	Plasma activation synergistic with sustained-release fenton polishing for achieving an atomically smooth surface on single-crystal diamond
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2026.110852
DOI	10.1016/j.mssp.2026.110852 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Xueting Huang; Zitong Zhang; Kuo Yang; Zhimin Chai; Yuanjing Dai 出版日期：2026
求助人	长度2到在 2026-06-12 16:35:38 发布自印度，悬赏 10 积分
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