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标题
Study of the Roughness in a Photoresist Masked, Isotropic, SF6-Based ICP Silicon Etch
网址
DOI
10.1149/1.2357723 doi
其它 期刊:Journal of The Electrochemical Society
作者:K. P. Larsen; D. H. Petersen; O. Hansen
出版日期:2006-12-01
求助人
晨曦 在 2026-08-29 18:01:40 发布自河南,悬赏 10 积分
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