| 标题 |
Universal direct patterning of colloidal quantum dots by (extreme) ultraviolet and electron beam lithography |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Nanoscale 作者:C. Dieleman; Weiyi Ding; Lianjia Wu; N. Thakur; I. Bespalov; et al 出版日期:2020-05-18 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)