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标题
Plasma-free metal-assisted chemical etching producing three-dimensional gallium nitride structures
制备三维氮化镓结构的无等离子体金属辅助化学蚀刻
相关领域
材料科学 氮化镓 光电子学 宽禁带半导体 氮化物 半导体 紫外线 蚀刻(微加工) 带隙 等离子体刻蚀 纳米技术 冶金 图层(电子)
网址
DOI
10.1039/d3tc02731g doi
其它 期刊:Journal of Materials Chemistry C
作者:Yikai Liao; You Jin Kim; Shu An; Munho Kim
出版日期:2023-01-01
求助人
Tao 在 2025-02-09 10:46:04 发布自浙江,悬赏 10 积分
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