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标题
A Chemical Vapor Deposition Diamond Reactor for Controlled Thin‐Film Growth with Sharp Layer Interfaces
相关领域
钻石 化学气相沉积 分析化学（期刊） 材料科学 兴奋剂 光致发光 化学 光电子学 复合材料 色谱法
网址
https://doi.org/10.1002/pssa.202200351
AI链接 fraunhofer.dedoi.org
DOI
10.1002/pssa.202200351 doi
其它 期刊：physica status solidi (a)
作者：Philip Schätzle; Philipp Reinke; David Herrling; Arne Götze; Lukas Lindner; et al
出版日期：2022-07-27
求助人
小蘑菇 在 2026-01-09 21:34:19 发布自江苏，悬赏 10 积分
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