Enhanced Area-Selective Deposition via NH 3 Plasma Treatment in Atomic Layer Deposition for Si/TiN Substrates

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标题	Enhanced Area-Selective Deposition via NH 3 Plasma Treatment in Atomic Layer Deposition for Si/TiN Substrates Si/TiN衬底原子层沉积中NH3等离子体增强区域选择性沉积相关领域原子层沉积材料科学沉积（地质）化学工程等离子体钴锡吸附图层（电子）金属选择性无机化学纳米技术表面改性等离子体处理
网址	https://doi.org/10.1021/acsami.5c16213
DOI	10.1021/acsami.5c16213 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Jeong-Hyeon Park; Yoona Choi; Soo-Min Yoo; Haeryong Kim; Woojin Jeon; et al 出版日期：2025-11-10
求助人	翻滚的肉夹馍在 2025-12-09 10:52:14 发布自上海，悬赏 10 积分
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