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Kinetically Stabilized Hafnia Ferroelectric of Al-Doped HfO₂ Film by Fast Ramping and Fast Cooling Process 相关领域
哈夫尼亚
铁电性
兴奋剂
材料科学
光电子学
过程(计算)
电气工程
工程物理
计算机科学
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物理
工程类
电介质
操作系统
立方氧化锆
陶瓷
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期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Lingwei Zhang; Giuk Kim; Sangho Lee; Hunbeom Shin; Young-Jin Lim; et al 出版日期:2024-10-18 |
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