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Alloying In 2 O 3 and Ga 2 O 3 on AlN templates for deep-ultraviolet transparent conductive films by mist chemical vapor deposition
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材料科学 正交晶系 化学气相沉积 带隙 薄膜 分析化学(期刊) 结晶学 紫外线 电阻率和电导率 晶体结构 纳米技术 光电子学 化学 色谱法 电气工程 工程类
网址
DOI
10.35848/1347-4065/ac4688 doi
其它 期刊:Japanese Journal of Applied Physics
作者:Yuri Ogura; Yuta Arata; Hiroyuki Nishinaka; Masahiro Yoshimoto
出版日期:2021-12-28
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ztt 在 2025-11-24 15:10:10 发布自浙江,悬赏 10 积分
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