| 标题 |
 Mimicking Hypoxia in Solution‐Processed TiO 2 /NiFe 2 O 4 Heterointerface‐Based Harsh Environment‐Resistant Synaptic Memristor 相关领域
神经形态工程学
记忆电阻器
材料科学
长时程增强
纳米技术
计算机科学
限制
异质结
突触可塑性
电阻式触摸屏
电阻随机存取存储器
电压
光电子学
人工神经网络
神经系统
可塑性
生物系统
氧化物
电导
变质塑性
神经科学
电流
非突触性可塑性
电极
联想学习
氧气
物联网
纳米尺度
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期刊：Advanced Functional Materials 作者：Priya Kaith; Faisal Farooq; Ashok Bera 出版日期：2025-10-24 |
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