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High-power impulse magnetron sputter deposition of TiBx thin films: Effects of pulse length and peak current density
大功率脉冲磁控溅射沉积TiBx薄膜：脉冲长度和峰值电流密度的影响
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2024.113070
AI链接 kb.se diva-portal.orgdoi.org
DOI
10.1016/j.vacuum.2024.113070 doi
其它 期刊：Vacuum
作者：Niklas Hellgren; Igor Zhirkov; Maurício A. Sortica; Andrejs Petruhins; Grzegorz Greczyński; et al
出版日期：2024-02-20
求助人
小白菜 在 2025-06-09 08:24:19 发布，悬赏 10 积分
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