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 Tuning the Plasma Etching Mode for the Atomic-Scale Smoothing of Single-Crystal Silicon 单晶硅原子级平滑等离子体刻蚀模式的调整
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期刊：The Journal of Physical Chemistry Letters 作者：Bing Wu; Yi Zhang; Rong Yi; Hui Deng 出版日期：2022-09-08 |
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