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标题
Dry Cleaning Technology for Removal of Silicon Native Oxide Employing Hot NH3/NF3 Exposure
网址
http://stacks.iop.org/1347-4065/41/i=8R/a=5349/pdf
DOI
10.1143/jjap.41.5349 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：H. Ogawa; Tomoharu Arai; M. Yanagisawa; T. Ichiki; Y. Horiike
出版日期：2002-08-15
求助人
安静思枫 在 2026-08-07 15:45:18 发布自湖北，悬赏 20 积分
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  • 18天前，求助关闭

    安静思枫 安静思枫 Lv1 求助人 关闭了本次求助。

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  • 18天前

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  • 18天前

    安静思枫 安静思枫 Lv1 求助人 发起了本次求助

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