Atomic Layer Deposition of Metallic Molybdenum Dioxide Thin Films Enabling High‐ k Rutile Capacitors

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标题	Atomic Layer Deposition of Metallic Molybdenum Dioxide Thin Films Enabling High‐ k Rutile Capacitors
网址	http://dx.doi.org/10.1002/admi.70512
DOI	10.1002/admi.70512 doi
其它	期刊：Advanced Materials Interfaces 作者：Alexey Ganzhinov; Miika Mattinen; Marko Vehkamäki; Kenichiro Mizohata; Mykhailo Chundak; et al 出版日期：2026-04-23
求助人	Abigail 在 2026-08-03 12:05:32 发布自福建，悬赏 10 积分
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