| 标题 |
Defect-induced instability mechanisms of sputtered amorphous indium tin zinc oxide thin-film transistors 溅射非晶铟锡锌氧化物薄膜晶体管的缺陷诱导不稳定性机制
相关领域
材料科学
氧气
薄膜晶体管
无定形固体
氧化铟锡
薄膜
锡
压力(语言学)
铟
图层(电子)
光电子学
冶金
复合材料
纳米技术
化学
结晶学
有机化学
哲学
语言学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Applied Physics 作者:Jinhee Park; You Seung Rim; Chao Li; Jiechen Wu; Mark S. Goorsky; et al 出版日期:2018-01-19 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)