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Investigation of the Impact of Post‐Deposition Argon Plasma Treatment of Thermally Evaporated Cadmium Telluride Thin Films 沉积后氩等离子体处理对热蒸发碲化镉薄膜影响的研究
相关领域
氩
材料科学
沉积(地质)
等离子体
碲化镉光电
薄膜
镉
分析化学(期刊)
冶金
化学工程
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化学
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物理
古生物学
量子力学
沉积物
生物
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期刊:Plasma Processes and Polymers 作者:Alaa E. Elwehishy; M.F. Al-Kuhaili; Kion Norrman 出版日期:2025-03-31 |
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