| 标题 |
  Research on the possibility of controlling the growth of thin copper layers deposited by DC magnetron sputtering 控制直流磁控溅射薄铜层生长的可能性研究
相关领域
溅射沉积
铜
微晶
薄膜
扫描电子显微镜
材料科学
电阻率和电导率
腔磁控管
分析化学（期刊）
表面粗糙度
粒度
晶界
溅射
冶金
表面光洁度
复合材料
微观结构
纳米技术
工程类
化学
色谱法
电气工程
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Heliyon 作者：T. Grudniewski; Estera Michaluk 出版日期：2023-04-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
归尘
onlyone
周晏平
哈基米德
积极从蕾
乐乐乐乐乐乐
打卡下班
YamDaamCaa
嘿嘿
xzy998
CAOHOU
Zoo
ccm
pluto
COSMAO
酷酷友容
iNk
DijiaXu
热心市民小红花
蛇從革
皖公网安备34019202002308
