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标题
Phosphorus doping in molecular beam epitaxial grown silicon and silicon/germanium using a GaP decomposition source
利用间隙分解源在分子束外延生长硅和硅/锗中掺杂磷
相关领域
兴奋剂 分子束外延 溶解度 外延 材料科学 扩散 固体溶解度 分析化学(期刊) 光电子学 化学 纳米技术 物理化学 冶金 图层(电子) 有机化学 物理 热力学
网址
DOI
10.1016/0022-0248(95)00337-1 doi
其它 期刊:Journal of Crystal Growth
作者:G. Lippert; H. J. Osten; D. Krüger
出版日期:1995-12-01
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Eric 在 2026-01-03 10:40:08 发布自上海,悬赏 10 积分
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