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Isotropic plasma-thermal atomic layer etching of superconducting titanium nitride films using sequential exposures of molecular oxygen and SF6/H2 plasma 相关领域
锡
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Azmain A. Hossain; Haozhe Wang; David S. Catherall; M. S. Leung; Harm C. M. Knoops; et al 出版日期:2023-09-26 |
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