Comparison of the Atomic Layer Deposition of Tantalum Oxide Thin Films Using Ta(NtBu)(NEt2)3, Ta(NtBu)(NEt2)2Cp, and H2O

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标题	专利、报告等 Comparison of the Atomic Layer Deposition of Tantalum Oxide Thin Films Using Ta(NtBu)(NEt2)3, Ta(NtBu)(NEt2)2Cp, and H2O
网址	https://doi.org/10.1021/acsami.6b11613.s001
DOI	10.1021/acsami.6b11613.s001 doi
其它	期刊：作者：出版日期：2020-04-07
求助人	随遇而安在 2026-10-14 15:11:46 发布自江苏，悬赏 10 积分
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