Nanofabrication of high aspect ratio (∼50:1) sub-10 nm silicon nanowires using inductively coupled plasma etching

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标题	Nanofabrication of high aspect ratio (∼50:1) sub-10 nm silicon nanowires using inductively coupled plasma etching
网址	http://dx.doi.org/10.1116/1.4755835
DOI	10.1116/1.4755835 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena 作者：Muhammad M. Mirza; Haiping Zhou; Philippe Velha; Xu Li; Kevin E. Docherty; et al 出版日期：2012-09-27
求助人	zhangyq 在 2026-10-20 11:13:26 发布自浙江，悬赏 10 积分
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