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The SEMATECH high-NA actinic reticle review project (SHARP) EUV mask-imaging microscope |
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10.1117/12.2026496
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期刊:SPIE Proceedings 作者:Kenneth A. Goldberg; Iacopo Mochi; Markus P. Benk; Chihcheng Lin; Arnaud Allezy; et al 出版日期:2013-09-20 |
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(2025-6-4)