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标题
专利、报告等 High Poly(fluorinated methacrylate)-block-Poly(acetoxystyrene) Block Copolymers for Sub5 nm Nanopatterning
网址
DOI
10.1021/acsami.5c06668.s001 doi
其它 期刊:
作者:
出版日期:2025-06-28
求助人
liuqidong 在 2026-09-28 16:00:11 发布自北京,悬赏 10 积分
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