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Nano-scale molecular analysis of positive tone photo-resist films with varying dose 不同剂量正性光致抗蚀剂薄膜的纳米分子分析
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期刊: 作者:Michael J. Eller; Mingqi Li; X. -L. Hou; Stanislav V. Verkhoturov; E. A. Schweikert; et al 出版日期:2020-03-20 |
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