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 Role of ALD Al2O3 Surface Passivation on the Performance of p-Type Cu2O Thin Film Transistors 相关领域
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Mari Napari; Tahmida N. Huq; David J. Meeth; Mikko Heikkilä; Kham M. Niang; et al 出版日期：2021-01-14 |
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