Hydrogen implantation and diffusion in silicon and silicon dioxide

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标题	Hydrogen implantation and diffusion in silicon and silicon dioxide 相关领域通量氢硅离子注入退火（玻璃）材料科学二氧化硅扩散俘获分析化学（期刊）离子原子物理学化学物理化学光电子学热力学冶金物理有机化学生物色谱法生态学
网址	https://doi.org/10.1007/bf01540112
DOI	10.1007/bf01540112 doi
其它	期刊：Applied Physics A 作者：D. Fink; J. Krauser; D. Nagengast; T. Almeida Murphy; J. Erxmeier; et al 出版日期：1995-10-01
求助人	激情的含巧在 2025-11-12 10:16:29 发布自福建，悬赏 10 积分
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