Strategic defect engineering at the buried interface for metal–halide transistors

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标题	Strategic defect engineering at the buried interface for metal–halide transistors 金属卤化物晶体管掩埋界面的战略性缺陷工程
网址	https://doi.org/10.1039/D5MH01285F
DOI	10.1039/D5MH01285F doi
其它	期刊：Materials Horizons 作者：Hyo-Won Jang; Go-Eun Kim; Mi-Jeong Kim; Joong Bum Rhim; Tae In Kim; et al 出版日期：2025
求助人	追忆在 2025-08-27 21:23:36 发布自浙江，悬赏 10 积分
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